Spiro TMD 加热的膜去溶系统
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      Spiro TMD是一款加热的多孔PTFE特氟龙膜去溶组件,可以

      有效减少ICPMS中来自溶剂的多原子干扰。水相和有机相溶剂

      两者都可实现去溶,因此Spiro可理想应用于HPLC。

      加热的多孔PTFE特氟龙膜

      水相和有机相溶剂的去溶

      减少来自溶剂中氧化物,氢化物和碳化物的多原子干扰

      适用于通过Apex时流动速率<400uL/min的样品

      去除挥发性酸基体,例如HCl和HF酸

      快速洗脱

      抗堵塞,可用于测量高矿化度的样品

      Apex可选配使用

      可在标准进样系统中加入膜去溶系统

      易于维修和清洗,用户可自行更换膜片

      CeO+:Ce比率约为0.03%


      Spiro TMD

      -Teflon®Teflon®

      膜解溶剂系统

      多孔渗水加热型 膜

      可除去有机和水溶剂分子

      可单独使用,也可与Apex配合使用

      可耐受高度溶解的固体基质

      膜维护简单

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