2026 年 5 月，上海凯来仪器有限公司重磅宣布，半导体事业部首款旗舰产品 ——GenesisSEMI Auto 全自动晶圆污染分析系统即将正式亮相。这款产品是凯来将点阵飞秒激光剥蚀核心技术成功转化为半导体工业场景高端检测装备的关键成果，标志着企业正式实现从通用型科研仪器，向垂直领域工业级解决方案的战略跨越，为国产半导体产业链补齐关键核心环节。

GenesisSEMI Auto

当前，半导体产业已成为全球科技竞争核心领域，海外对高端算力与先进制程技术的封锁，进一步推动国内成熟制程与第三代半导体产能持续扩张。从硅片制造到封装测试全流程，薄膜厚度量测、表面缺陷检测、扫描电镜（SEM）等精密量测仪器需求呈指数级增长。

伴随半导体材料从传统硅基，向碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）、砷化镓（GaAs）、磷化铟（InP）等宽禁带及化合物半导体快速迭代，晶圆污染检测遭遇多重核心瓶颈：

• 传统 VPD-ICP-MS 技术仅适配 HF 可分解的硅晶圆，无法检测 B、P、As 等体相掺杂元素含量与均一性，更不兼容新一代化合物半导体材料；

• 高端微区分析设备长期被海外厂商垄断，国产化替代需求迫切；

• 现有检测方案难以同步实现表面金属污染 + 体相杂质的高通量、自动化在线监测；

上海凯来半导体事业部依托自主知识产权的点阵飞秒激光剥蚀技术平台，推出 GenesisSEMI Auto，致力于为半导体制造企业提供24 小时无人值守的在线分析解决方案，全面替代进口同类设备，在关键 “卡脖子” 环节实现技术自主可控。

• Clean超大洁净仓一体化设计：摒弃传统独立样品仓，将点阵飞秒激光剥蚀系统、飞秒 LIBS 系统、五轴精密移动台全集成于超大洁净仓内，实现样品全流程与实验室环境物理隔离，维持恒定超高纯惰性气体气氛，从源头杜绝外部污染干扰。

• 双光路与固体标准加入法：采用双光路独立优化设计，搭配专利固体标准加入法（Solid Standard Addition Method），通过气溶胶原位混合技术，无需内标元素即可实现精准定量，检测极限达行业领先水平。

• 超快飞秒激光引擎：搭载极致超短脉宽、百万赫兹重复频率激光器，可选 343 nm（日常高精度分析）、257 nm（深紫外极限性能）双波长配置，配合超高速扫描仪与高精密气路，实现纳米级样品颗粒稳定气溶胶传输，直接导入 ICP-MS 分析，大幅简化流程，避免化学试剂带来的二次污染。

• 智能全自动晶圆传输：全面适配 SEMI 标准晶圆规格，集成 FOUP 自动传输模块。操作人员仅需将晶圆盒放置于装载端口并设定任务，系统即可自动完成晶圆传输、定位、多模式分析及回收，实现真正 “一键式” 无人化运行。。

GenesisSEMI Auto 突破材料限制，不仅适用于传统硅基晶圆，更可直接对 SiC、GaN、GaAs、InP 及石墨烯等新一代半导体晶圆开展杂质检测与深度分析，无需复杂前处理。

系统软件与 ICP-MS 深度联动，支持校准曲线、全扫描、点模式、直线扫描、面扫描、深度分布及斜面分析七种自动测量模式，灵活满足快速筛查到微区精细 mapping 的全场景检测需求。

GenesisSEMI Auto 的问世，是上海凯来从 “通用型科研仪器供应商” 向 “半导体高端工业装备制造商” 战略转型的里程碑。该系统实现核心技术、装备制造、Fab 场景应用验证全链条自主可控，为晶圆制造企业提供高性能、高可靠性的本土化解决方案，推动国产高端半导体检测装备实现质的跨越。

上海凯来诚挚邀请晶圆制造、半导体材料及检测设备领域的合作伙伴莅临交流、实地验证。研发团队将针对客户实际应用场景，提供定制化产品解决方案。未来，上海凯来将围绕晶圆污染检测、高纯化学品及电子特气质控等核心方向，持续推出成套专用设备与整体解决方案，与产业同仁共建行业标准、共拓产业生态，全力护航 “中国芯” 自主自强。